α、β表面污染監(jiān)測(cè)儀具備大面積探測(cè)窗，探測(cè)器效率高，可適用于各種場(chǎng)合的表面污染測(cè)量。主要用于α、β放射性表面污染的測(cè)量，廣泛用于因可能被污染而必須監(jiān)測(cè)的場(chǎng)所，例如：核電廠、再加工工廠、退役或被拆除的核設(shè)施、放射性廢物處理廠、醫(yī)院、研究所及各種環(huán)境中的應(yīng)用，可對(duì)墻壁、地板、桌子、手、腳、衣服或其他物品進(jìn)行表面污染監(jiān)測(cè)。α、β表面污染監(jiān)測(cè)儀操作流程規(guī)范
一、使用前準(zhǔn)備
(一)環(huán)境確認(rèn)
1. 確認(rèn)監(jiān)測(cè)區(qū)域安全狀態(tài)，設(shè)置警戒線或警示標(biāo)識(shí)，穿戴防護(hù)服、手套及劑量計(jì)。
2. 檢查環(huán)境光照條件，保持監(jiān)測(cè)儀周圍無(wú)強(qiáng)光源直射，避免光學(xué)干擾。
(二)儀器檢查
1. 外觀檢查：查看儀器外殼是否完好，液晶屏無(wú)破損，按鍵靈敏，探頭連接牢固。
2. 電池電量：開(kāi)機(jī)后確認(rèn)電量指示≥80%，不足時(shí)更換充電電池或接駁外接電源。
3. 探頭狀態(tài)：檢查α、β探頭窗口無(wú)裂痕、無(wú)污染，使用酒精棉片輕拭表面。
(三)配件準(zhǔn)備
1. 準(zhǔn)備標(biāo)準(zhǔn)校準(zhǔn)源(如^241Am α源、^90Sr-^90Y β源)及校驗(yàn)用參考污染片。
2. 配備記錄本、鋼筆、便攜式照明設(shè)備(可選)。
二、儀器校準(zhǔn)與初始化
(一)本底測(cè)量
1. 將儀器置于待測(cè)區(qū)域附近(距離污染源≥1m)，開(kāi)機(jī)預(yù)熱5分鐘。
2. 進(jìn)入"本底測(cè)量"模式，探頭垂直指向空氣，連續(xù)測(cè)量3次，取平均值記錄(例如：α本底=0.02cps，β本底=0.15cps)。
(二)能量校準(zhǔn)
1. 調(diào)取儀器內(nèi)置校準(zhǔn)程序，選擇對(duì)應(yīng)放射源類型(α/β)。
2. 將標(biāo)準(zhǔn)源貼近探頭(距離≤5mm)，啟動(dòng)自動(dòng)校準(zhǔn)，調(diào)節(jié)閾值至^241Am α峰位(約5.48MeV)或^90Sr-^90Y β譜區(qū)(0.5-2.2MeV)。
3. 保存校準(zhǔn)參數(shù)，誤差范圍應(yīng)控制在±10%以內(nèi)。
三、表面污染測(cè)量流程
(一)參數(shù)設(shè)置
1. 根據(jù)監(jiān)測(cè)目的選擇測(cè)量模式：
- 快速篩查：靈敏度優(yōu)先，量程0-1000cps，測(cè)量時(shí)間10秒/點(diǎn)。
- 定量分析：精度優(yōu)先，量程0-100cps，測(cè)量時(shí)間60秒/點(diǎn)。
2. 設(shè)置報(bào)警閾值(默認(rèn)α≥0.5Bq/cm2，β≥5Bq/cm2)。
(二)標(biāo)準(zhǔn)化操作
1. 掃描路徑規(guī)劃：
- 網(wǎng)格法：按10cm×10cm劃分監(jiān)測(cè)區(qū)域，探頭中心對(duì)準(zhǔn)網(wǎng)格交點(diǎn)。
- 螺旋法：從中心向外螺旋移動(dòng)探頭，覆蓋直徑30cm圓形區(qū)域。
2. 測(cè)量實(shí)施：
- 探頭垂直壓緊被測(cè)表面(壓力≈5N)，保持3秒穩(wěn)定接觸。
- 對(duì)于凹凸表面，采用多點(diǎn)測(cè)量取平均值(每點(diǎn)測(cè)量3次)。
- 復(fù)雜幾何體(管道、閥門)需多角度測(cè)量，記錄最大值。
四、特殊情況處理
(一)高污染區(qū)域應(yīng)對(duì)
1. 當(dāng)α>50Bq/cm2或β>500Bq/cm2時(shí)：
- 立即標(biāo)記紅色警示標(biāo)簽
- 改用遠(yuǎn)程操控桿持探頭測(cè)量
- 增加測(cè)量頻次(每30分鐘復(fù)測(cè)一次)
(二)干擾因素排除
1. 電磁干擾：關(guān)閉手機(jī)、對(duì)講機(jī)等電子設(shè)備，保持儀器與高壓設(shè)備距離≥2m。
2. 濕度影響：環(huán)境濕度>80%時(shí)，使用防潮罩包裹探頭。
3. 熒光干擾：關(guān)閉儀器背光，采用濾光片模式測(cè)量。
五、測(cè)量后處理
(一)數(shù)據(jù)整理
1 導(dǎo)出儀器存儲(chǔ)數(shù)據(jù)至PC端，使用專用軟件生成等劑量圖。
2. 對(duì)比歷史數(shù)據(jù)，標(biāo)注污染趨勢(shì)(上升/穩(wěn)定/下降)。
(二)儀器去污
1. 使用專用去污劑(如0.1M EDTA溶液)擦拭探頭。
2. 本底復(fù)測(cè)：清潔后α本底增幅應(yīng)<10%，否則需返廠維修。
(三)報(bào)告編制
1. 包括以下要素：
- 監(jiān)測(cè)日期、時(shí)間、天氣條件
- 儀器型號(hào)、校準(zhǔn)證書編號(hào)
- 測(cè)點(diǎn)布置圖及污染分布云圖
- 超標(biāo)點(diǎn)處理建議
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更新時(shí)間：2025-09-23
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